- 加热炉设备
- 晶体及材料
- 破碎/球磨设备
- 压片设备
- 辊压设备
- 切割设备
- 磨抛设备
- 清洗设备
- 电池研发设备
- 薄膜制备
- 配件
- 其它实验室设备
LiF晶体基片
- 产品概述:
- 氟化锂广泛应用于紫外窗口,棱镜等领域
免责声明:
本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅用于宣传用途,仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差,请勿复制或者截图。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息及更多参数,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,请勿将此参数用于招标文件或者合同,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档,说明书(在线阅览),装箱单,与售后安装条件等文件,请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户,购买前请与工作人员沟通,以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
产品名称
|
氟化锂(LiF)晶体基片 |
技术参数
|
晶体结构: | 立方晶系 | 晶格常数: | 4.026 Å | 密度: | 2.635 g/cm3 | 熔点: | 855 °C | 硬度: | 4 Mohs | 热膨胀系数: | 37×10-6/K | 折射率: | no=1.39212 | 透过波段: | 0.11-7.0um | 透过率: | > 85% @ 5 um > 65% @ 0.2 um | 色彩离差: | 0.00395 | 温度系数: | -12.7 @ 0.6 m | 生长方法: | 布里奇曼法 |
|
产品规格
|
常规晶向: | <100> <110> <111> | 常规尺寸: | 10 x 10 x 0.5 mm 5x 5x 0.5mm | 抛光情况: | 单抛 双抛 | 表面粗糙度: | <5A | 注:尺寸及方向可按照客户要求定做。 |
|
晶体缺陷
|
人工金属单晶存在常见晶体缺陷,表面可能会有小黑点,微小气泡等。 |
标准包装
|
1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装。 |
免责声明:
本站产品介绍内容(包括产品图片、产品描述、技术参数等)仅用于宣传用途,仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差,请勿复制或者截图。如果您对参数有异议,或者想了解产品详细信息及更多参数,请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺,请勿将此参数用于招标文件或者合同,科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息,恕不另行通知,请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档,说明书(在线阅览),装箱单,与售后安装条件等文件,请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户,购买前请与工作人员沟通,以免给您带来不便。