· 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作

· 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布

· 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命

· 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配

· 安装是采用标准真空接头，便于操作

· 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度

配有一块铜靶

· 溅射头的直径:46.3mm

· 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm)

· 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm) 

· 磁环:NdFeB稀土永磁铁      

杆的直径:      3/4" O.D.

DC (最大) 250 W

RF （最大）100 W

3A

200 - 1,000 V

~1 mTorr 至1 Torr

· 

· 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为：

· 功率：直流150W

· 真空环境：10mTorr(Ar)

靶材与基片的距离：75mm

· 所需水流量： 1/2 GPM

· 进水温度：<20 ℃

水管接头：0.25" O.D快插头

· 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配

· 本公司会赠送一高真空快速接头

· 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
 

14英寸（355.6mm)

1.36kg

· 溅射头相对于杆最大可倾斜+/- 45度

· 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度

· 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L

本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪

一年质保期终身维护

· 在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用：

· 薄膜涂覆

· 半导体器件

· 磁记录介质

· 超导薄膜

· 量子计算器件

· MEMS

· 生物传感器

· 纳米技术

· 超晶格

· 颗粒膜

· 记忆合金

· 组合薄膜沉积

光学薄膜