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超薄Si片
- 产品概述：
- 化学符号为Si,主要用途有：制作半导体器件、红外光学器件及太阳能电池衬底等材料。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 产品参数
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掺杂物质 | 掺B | 掺P | 类型 | P | N | 电阻率Ω.cm | 10-3 ~ 40 | 10-3 ~ 40 | EPD(cm-2 ) | ≤100 | ≤100 | 氧含量( /cm3 ) | ≤1.8 x1018 | ≤1.8 x1018 | 碳含量( /cm3 ) | ≤5x1016 | ≤5x101 |
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| 常规尺寸
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晶体方向：<111>； <100>； <110> ± 0.5° 或特殊的方向 常规尺寸：dia2"x0.1mm、 dia2"x0.2 mm； 尺寸公差：dia2"直径公差±0.4mm；厚度公差±25um； 表面粗糙度：Ra<10A 同时可提供热氧化SiO2层的Si片；Si+SiO2+Ti+Pt的基!欢迎您的咨询！ |
| 备注
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1000级超净室100级超净袋单片盒或25片插盒封装 |
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