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氟化镧(LaF3)晶体基片
- 产品概述:
- 氟化镧广泛应用于红外窗口和紫外窗口,棱镜基片。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
产品名称
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LaF3晶体基片 |
技术参数
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晶体结构: | 三方晶系 | 晶格常数: | a=7.190 Å c=7.367 Å | 纯度: | 99.99% | 密度: | 5.936 g/cm3 | 硬度: | 4.5 Mohs | 熔点: | 1493℃ | 生长方向: | <0001> | 热膨胀系数: | 11.9 x10-6/ K // c 15.8 x10-6/ K // a | 热导率: | 5.1 W / m.k @ 300K | 光传输范围: | Up to 10.5 micron wavelength 折射率 no : 1.63 ne: 1.597 | 生长方法: | 提拉法 |
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产品规格
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常规晶向: | <10-10>、<11-20>、<0001> | 常规尺寸: | 10x10x0.5mm | 抛光情况: | 单抛、双抛 |
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标准包装
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1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装 |
晶体缺陷
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人工生长单晶有可能存在晶体内部缺陷。 |
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