- 加热炉设备
- 晶体及材料
- 破碎/球磨设备
- 压片设备
- 辊压设备
- 切割设备
- 磨抛设备
- 清洗设备
- 电池研发设备
- 薄膜制备
- 配件
- 其它实验室设备
氟化镁(MgF2)晶体基片
- 产品概述：
- 氟化镁广泛应用于超紫外窗口，平镜何棱镜等领域。科晶可以提供多种氟化物单晶，广泛用来做红外光学元件。科晶真诚欢迎您的垂询。
免责声明：
本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等）仅用于宣传用途，仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差，请勿复制或者截图。如果您对参数有异议，或者想了解产品详细信息及更多参数，请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，请勿将此参数用于招标文件或者合同，科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知，请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。
技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
| 技术参数
|
晶体结构: | Tetragonal | 晶格常数: | a=4.64 c=3.06 | 熔点(oC): | 1255 | 密度(g/cm3): | 3.18 | 硬度: | 6 | 热膨胀系数(oC-1x 10-6): | 13.7 | 折射率: | ho 1.37740 he 1.38945 | 透过波段 (microns): | 0.11 - 7.5 | 透过率: | >93% @5 m
>85% @ 0.2 m | 色彩离差(hf-hc): | 0.00355 | 温度系数( dh / dt x 10-6 ): | 2.3 ~1.7 @ 0.4 m | 晶体生长方法: | Bridgeman |
|
| 产品规格
|
常规晶向：<100>、<001>、<110>、<111>； 常规尺寸:5x5x0.5mm、10x10x0.5mm、dia1″x0.5mm； 抛光情况：单抛、双抛; 表面粗糙度Ra:<5A 注：可按照客户要求加工尺寸和晶向 |
| 标准包装
|
1000级超净室100级超净袋包装 |
免责声明：
本站产品介绍内容（包括产品图片、产品描述、技术参数等）仅用于宣传用途，仅供参考。由于更新不及时和网站不可预知的BUG可能会造成数据与实物的偏差，请勿复制或者截图。如果您对参数有异议，或者想了解产品详细信息及更多参数，请与本公司销售人员联系。本站提供的信息不构成任何要约或承诺，请勿将此参数用于招标文件或者合同，科晶公司会不定期完善和修改网站任何信息，恕不另行通知，请您谅解。
如果您需要下载产品的电子版技术文档，说明书（在线阅览），装箱单，与售后安装条件等文件，请点击上方的附件下载模块中选取。商城产品仅针对大陆地区客户，购买前请与工作人员沟通，以免给您带来不便。
查看诚信档案
皖公网安备 34012302000974号
