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WS2二硫化钨
- 产品概述:
- 应用于半导体电子器件、光学器件等研究。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
产品名称
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WS2二硫化钨
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技术参数
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类型: | CVD法人工合成 | 纯度: | >99.99% | 外观: | 黑色 | 电导: | 半导体 | 带隙: | 单层直接带隙 约2.0 eV | 常规尺寸: | ~ 3x3x0.1 mm 面积≥10平方毫米 | 晶体结构: | 六方晶系 | 晶体常数: | a=3.15Å c=12.27Å α=β=90° γ=120° | 生长方法: | 分子外延, 化学气相沉积 |
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标准包装
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1000级超净室,100级超净袋或单片盒封装
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