小型提拉法(CZ)单晶生长炉(可用于生长直径<25mm,最高温度2100℃)
关键字:
生长小于1英寸单晶、最高温度2100℃
型号:
IMCS-2000-CZ
产品概述:
IMCS-2000-CZ是一款小型的提拉法(CZ)晶体生长炉,生长单晶直径<25mm。此设备最高温度可达2100℃,可用于生长Al2O3,GGG,YAG,LaAlO3,Si,Ge和各种金属单晶等。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
电源需求

输入电压:380VAC,三相  (需要50A空气开关)

感应加热最大输入电流50A

最大输出功率25KW


真空腔体

真空腔体采用304不锈钢制作

真空腔体尺寸:Φ320×320mm

腔体门上有一石英窗口(Φ120mm),用于观察材料熔化,种籽晶和长晶过程

一个KF25接口和一个KF40真空接口在腔体后端

LF160接口在腔体右侧,用于连接分子泵系统。

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提拉机构

提拉机构采用精密伺服电机驱动

提拉速度:0.4-15mm/hr

提拉干旋转速度:0.1-23RPM

移动行程:0-250mm

提拉机构可快速移动35mm/min

 

可增加上称重模块,用实时测量提拉出样品的质量与电源功率输出配合,提高长晶质量(需要额外增加费用)


真空&气氛

真空腔体种可抽真空和通入惰性气氛

设备中配有一个数显防腐真空计(传感器上涂油陶瓷涂层),测量范围为10^-5 ~ 1000 torr

真空度:5 x 10-6 torr(采用分子泵系统)

     5×10-2torr(采用机械泵)

可在本公司购买各种真空泵

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感应加热

25KW(30-80KHz)感应电源,带有时间控制器和功率控制器

感应线圈:Φ90mm×80mmH

其他尺寸线圈可定制

设备需要:116L/min的循环水冷机(标配中包含,需要额外付费购买)

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控制面板

触摸屏控制面板

可控制提拉速度,提拉行程,籽晶杆转速和工作温度


应用注意事项

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熔化材料

籽晶种入到熔液

提拉开始

生长的氧化铝单晶

生长的Ni单晶


设备尺寸

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