1100度小型真空/气氛快速升降温RTP炉--OTF-1200X-4-RTP （2023.5.10--科晶实验室审核）

·双层钢制外壳，风冷，使炉表面温度低于60℃。

·高纯度纤维状氧化铝绝缘，最大限度地节约能源。

·带联锁保护的分体式盖子，如果盖子在熔炉加热过程中打开，则切断电源。

·超大管径内径φ100mm，外径φ110mm。

·最高温度可达1100℃。

·法兰上安装有滑轨可直接推拉操作。

·最大1100ºC，持续时间<10分钟

·最大1000ºC，持续＜20分钟（注意：如果运行时间更长，炉壳将＞100ºC，必须使用风扇从外部冷却炉壳）

·最大800ºC，持续时间<120分钟

·连续温度最高600ºC

·设备电源：208-240 AC，50/60 Hz单相，最大12KW（单相80A空开）

·法兰：KF-25D型不锈钢高真空法兰            

·加热区长度：190mm                   

·控温精度：+/-1℃(欧陆表型温控仪表可达0.1℃)               

·热电偶：可插入式的铠装热电偶，进口K型热偶, 紧贴在放样品的AlN片下

·最大功率：12KW       

·循环水流量:0.5 m3/h

·标配流量计量程范围：16-160 ml/min

·可选配测量范围为10-4至1000托的数字真空计 

更多参数请联系科晶销售部

·短波红外灯管

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包括858温度控制器。

比例-积分-微分控制（PID控制）和自动调谐功能

50个分段，编程有斜坡、冷却和停留步骤

内置超温报警和热电偶故障报警

+/-1ºC温度控制精度

默认DB9 PC通信端口

·石英管尺寸：外径4.33英寸x内径4.05英寸x长度16.2英寸。

包括一个直径为3“的AlN样品支架，用于对直径不超过3”的样品进行退火。AlN具有非常高的热导率，

这在样品区域中提供了最佳的温度均匀性。样品支架可从法兰上拆卸，以便将RTP炉用于其他用途

·可选：3英寸外径厚的石墨基板可作为AIN板的替代品。

·可选：石墨坩埚：外径87 mm x内径71 mm x高度12 mm，带盖，设计用于3“样品架，也可以改装为RTE、CSS或HPCVD炉，带有涂有SiC的石墨坩埚。

·KF-D25高真空法兰由不锈钢制成，具有双重高温。硅胶O型圈、针阀和水冷套。

·它只需要在温度>600摄氏度的长时间运行中进行水冷。

·循环水流量：0.5 m3/h。

·滑出式法兰提供了一种更简单的方式来装载、卸载样品和其他所需的特定过程。

·插入式热电偶，实现精确测量。

· 型号：VRD-8

· 抽气速率：2.2 L/S

· 电机功率：370 W

· 极限压强：5×10^-1Pa（不带负载）

· 为了得到更高的真空度，可以选购我公司的其他高真空系统

· 型号：KJ-5000

· 工作电压：AC 220V 50HZ

· 工作电流：1.4-2.1A，制冷量：2361Btu/h

· 压缩机功率：300W，水箱容量：6L

· 最大流量：16L/min，净重：24 Kg

·使用带有KF25适配器的机械真空泵，压力可以达到50以上

·通过带有KF25适配器的分子泵，压力可以达到10-4ttor

法兰闭合：1350mm（长）x 330mm（宽）x 590mm（高）

法兰开口：1350mm（长）x 520mm（宽）x 740mm（高）

·炉膛尺寸：Φ180X190

70Kg

·此产品已通过CE认证

  证书编号： M.2021.206.C67997

·若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证

一年保修，终身技术支持。

 特别提示：1.耗材部分如加热元件，石英管，样品坩 埚等不包含在内。

          2.因使用腐蚀性气体和 酸性气体造成的损害不在保修范围内。

·您可以将RTP炉与高真空站或气体输送系统结合起来，作为真空炉或CVD系统。

·为了实现快速冷却速率（＜10ºC/秒），您可以选择带滑轨的RTP炉。

·您可以命令压力控制模块（点击右下方的图片）使腔室保持恒定压力