0.7L等离子清洗机 (配真空计,3"Dx 6.5"L石英腔室,13.56Mhz)
关键字:
3英寸 等离子 基片清洗
型号:
PDC-36G
产品概述:
PDC-36G 等离子清洗机是一种紧凑型、低成本的等离子清洗机。使用空气、氧气、氩气等离子去除纳米级有机物污染。在射频电源的作用下,去除速率最大每分钟10纳米。在单晶材料外延薄膜生长以前进行预处理,对生长具有显著的作用 。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
设备名称

0.7L等离子清洗机(配真空计,3"Dx 6.5"L石英腔室,13.56Mhz)-PDC-36G (2019.11.26—科晶实验室审核)

产品提示

1、多种配件可选提示   2、特殊设备尺寸设备   3、科晶实验室邀请提示   4、配件妥善保管提示

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QQ截图20191126111812.jpg

       操作视频

设备特点

·结构紧凑、小型化的桌上型仪器

·用各种气体清洗和去除晶片上纳米级有机污染物。

·在制膜实验之前预先清洁镀膜基底的优秀工具。清洗后镀膜的质量可以更好。

·铰链式门,方便装样

·石英腔的直径是3英寸,在里面可以放入一个石英舟,最大清洗一个2英寸的基片。

·清洗腔里面的石英管可以拆卸,方便清洗和更换

·使用可调射频电源,可以设置功率为低、中、高级别;低成本、操作安全。


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主要参数

·等离子直流电源:

低功率设定

直流680V

10mA

6.8W

中功率设定

直流700V

15mA

10.5W

高功率设定

直流720V

25mA

18W

·射频源输出频率:13.56MHz;

·输入电压:220V,50Hz;

·压力范围:1-1999TOrr;



更多参数请联系科晶销售部

机体结构

等离子腔室:·直径75mmx长200mm的石英墙体,前盖可以开启。

            ·高纯度石英腔体,使用寿命比玻璃长。

阀门:·1/8英寸针阀控制进气。

      ·1/8英寸三通球阀控制气体进出。

真空计:设备标配一个电阻规和数显电阻真空计用于实时监测清洗仓内的真空度。


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工作气体

·多种气体可以用于等离子清洗,例如氮气、氩气、空气、混合气体,主要取决于处理何种材料。

·可以使用<4%的H2混合惰性气体

等离子清洗及刻蚀的方法

工作原理

等离子清洗机工作原理

外形尺寸

·353mm(L)x380mm(W)x225mm (H)


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净重

(不含泵)8kg

质保期

一年保修,终身技术支持。

特别提示:1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。

点击查看售后服务承诺书

认证

·此产品已通过CE认证

  证书编号:M.2021.206.C67994

·若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证

技术参数-6.jpg


科晶应用技术实验室用此设备清洗基片,清除表面污染物,以供参考。


清洗前向基片上滴入0.05ml水滴,其结果如图所示。通入氩气清洗十分钟后,向基片上滴入0.05ml水滴,其结果如图所示。

石英

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图1

清洗前

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图2

清洗后

硅片

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图3

清洗前

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图4

清洗后


应用技术提示

1、使用时间不建议超过一小时。

2、如果清洗机腔室,不能立即充气,油会回流到腔室污染系统。真空泵需安装防回油装置。

3、为保护设备,设备工作后能立即关机,但关机后最好在10秒后再开机工作。  

4、腔室需定期进行清洗。          

警示

1、腔室内不能 通入正压。

2、真空状态下不要打开前级法兰,防止损坏玻璃室。

5、此设备不能使用可燃性、腐蚀性及有毒有害气体。


可选配件

1、您可以订购额外的石英腔体,用于备用。

2、如果需要一个通入两种气体的工艺解决方案,PDC-36G等离子清洗机可以与2路混气系统组合。


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3、您可以订购石英晶片载体来清洁2英寸晶片。


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4、您可选配双极旋片式真空泵进行抽真空。


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