蒸发镀膜设备—产品对比速览

发布时间:2020-06-18

①性能参数


设备型号

工作温度

升温速率

控温精度

功率

产品特点

OTF-1200X-RTP-II-5-R

最高800℃

≤10℃/min

±1℃

10KW

1、顶部载样台转速可调0-10rpm

2、导热率较高的氮化铝陶瓷片作为载样台

3、两样品台距离可控

GSL-1700X-SPC-2

最高1700℃

0.3℃/S(≤1200℃)   0.15℃/S(1200-1500℃)

±1℃


1、样品台可以旋转

2、样品台和蒸发源之间的距离可以调节

GSL-1350X-ISE

1200℃(连续)1350℃(<1h)

≤30℃/min

±1℃


可插式蒸发仪

GSL-1700X-EV4

最高1700℃


±1℃

1.2KW

1、四个蒸发坩埚可依次蒸发

2、Φ50样品台与蒸发源距离可调节

GSL-1800X-ZF4




10KW

独立蒸镀控制器

OTF-1200X-PLD

最高1200℃



1.2KW

1、可与准分子激光器配合进行PLD

制膜

2、腔体内部可安装多块靶材





②外形参数


设备型号

加热元件

炉管尺寸及材料

外形尺寸

重量

OTF-1200X-RTP-II-5-R

红外灯管


790×600×1100mm


GSL-1700X-SPC-2

钨丝篮

石英腔体:

167 OD x 152ID x 260mmH

440×330×630mm

40kg

GSL-1350X-ISE

钨丝




GSL-1700X-EV4

钨丝篮

石英腔体:

280 OD x 260 ID x310mmH

550×550×750mmH

80kg

GSL-1800X-ZF4


不锈钢腔体:

Φ300×400mmH

650×1200×1600mmH

600kg

OTF-1200X-PLD

掺钼铁铬铝

高纯石英腔体

1300×1260×820mm



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