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1200℃双温区4坩埚分体式HPCVD炉(带进样系统)
- 关键字:
- 双温区、开启式、依次移动
- 型号:
- OTF-1200X-II-ZL
- 产品概述:
- OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的(在真空气氛保护环境下移动)管式炉,最多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,适合制备多层二维晶体材料。
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技术参数产品视频实验案例警示/应用提示配件详情
开启式管式炉
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双温区管式炉:两个独立的温控系统分别独立控制两个温区 加热区长度:温区1:200mm, 温区2:200mm 炉管材料:高纯石英 炉管尺寸:外径: 60 ×内径: 54×长: 760 mm 温度曲线图(两个温区设置在800℃时所测,仅供参考)(可点击图片查看详细资料))
最高工作温度:1200℃(<1hr) 连续工作温度:1100℃ 控温精度:+/-1℃
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真空密封
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配有不锈钢密封法兰,上面安装有不锈钢截止阀和机械压力表 进气端法兰接口为Φ6.35卡套接头,出气端法兰接口为KF25接口 法兰密封圈采用水冷却,使用时需要通入冷却水,可在本公司选购循环水冷机 真空度:10E-2 torr(采用机械泵),10-E5 torr(采用分子泵)
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坩埚移动机构(转轮式法兰)
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一根铠装热电偶通过左端法兰通入到炉管内部,并与坩埚相连接(图1) 通过步进电机驱动使坩埚移动,并和热电偶和坩埚一起移动,实时监测样品的温度 进气端法兰转轮式法兰(图2) 可同时在转轮系统中放入4个坩埚,可交替将放入4种材料的石英坩埚自动送入到石英管中(可在真空状态或气氛保护状态进行运作)
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坩埚移动控制
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通过一步进电机控制坩埚移动的速度和位置 可控制坩埚最小移动位移为1mm 坩埚最大移动距离为200mm
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防腐型数显真空计
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混气系统
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此套设备中配有一2路混气系统 最大输出功率:18W 工作温度:5-45℃ 最大气压:3×106Pa 精度:±1%FS 质量流量计量程: 1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根据客户要求选购1-5路供气系统
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产品尺寸
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2400L×600W×1300mm H |
质保
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一年质保期,终生维护(不包含炉管,密封圈和加热元件) |
质量认证
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使用注意事项
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炉管内气压不可高于0.02MPa 由于气瓶内部气压较高,所以向炉管内通入气体时,气瓶上必须安装减压阀,建议在本公司选购减压阀,本公司减压阀量程为0.01MPa-0.1MPa,使用时会更加精确安全 当炉体温度高于1000℃时,炉管内不可处于真空状态,炉管内的气压需和大气压相当,保持在常压状态 进入炉管的气体流量需小于200SCCM,以避免冷的大气流对加热石英管的冲击 石英管的长时间使用温度<1100℃ 对于样品加热的实验,不建议关闭炉管法兰端的抽气阀和进气阀使用。若需要关闭气阀对样品加热,则需时刻关注压力表的示数,若气压表示数大于0.02MPa,必须立刻打开泄气阀,以防意外发生(如炉 管破裂,法兰飞出等)
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应用注意事项
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国家专利
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专利名称:多样品单通道自动切换进样系统及其进样方法
专利号:ZL 2016 1 0396132.X
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